Авторы разработки из научно-исследовательской лаборатории инженерной химии НИИ химии предложили также комплексный подход к управлению параметрами наночастиц. Он позволяет получать однородный и стабильный материал с небольшим количеством примесей, задавая частицам нужные размеры и форму. От этих свойств зависит возможность применять порошок при выпуске микросхем.

Для производства продукта ученые создали технологическую линию и определили порядок работы. Полученную устойчивую суспензию направили промышленному партнеру, которому предстоит ее опробовать.

Руководитель исследования, кандидат химических наук, научный сотрудник научно-исследовательской лаборатории инженерной химии Ксения Отвагина пояснила, что патент касается очистки аморфного диоксида кремния. Такой материал предназначен для химико-механической полировки полупроводниковых пластин, а также для других операций с высокочистыми абразивными наноматериалами.

Как объяснила Отвагина, качество обработки пластин определяется размерами частиц, их формой и однородностью. Это сказывается на том, насколько надежной и производительной будет электроника. Разработку российских материалов, характеристики которых можно контролировать, она считает важной для отрасли и сокращения зависимости от зарубежных поставщиков.

Ректор Университета Лобачевского Олег Трофимов назвал создание собственной компонентной базы одной из ключевых задач страны. По его словам, вуз стремится доводить научные исследования до серийного внедрения. Ректор отметил, что масштабирование технологии прошло успешно, а переход к испытаниям совместно с индустриальным партнером подтверждает верность выбранного пути.

Ограничения поставок сделали критически необходимым создание отечественных аналогов, которые по своим свойствам могли бы соперничать с иностранными продуктами.

Источник: ТАСС